台积电 7 奈米+ 良率已与 7 奈米相当,6 奈米 2020 年第 1 季量产

台积电 7 奈米+ 良率已与 7 奈米相当,6 奈米 2020 年第 1 季量产

晶圆代工龙头台积电宣布,其领先业界导入极紫外光(EUV)微影技术之 7 奈米强效版(N7+)製程已协助客户产品大量进入市场。而导入 EUV 微影技术的 N7+ 製程奠基于台积电成功的 7 奈米製程上,为 6 奈米和更先进製程奠定良好基础。而 6 奈米製程则将在 2020 年第 1 季正式进入量产。

台积电表示 N7+ 製程的量产速度为史上量产速度最快的製程之一,于 2019 年第 2 季开始量产,在 7 奈米製程技术(N7)量产超过一年时间的情况下,N7+ 良率与 N7 已相当接近。而且,N7+ 製程同时提供了整体效能的提升,N7+ 的逻辑密度比 N7 提高 15%~20%,并同时降低功耗,成为业界下一波产品中更受欢迎的製程选择。台积电亦快速布建产能以满足多个客户对于 N7+ 製程的需求。

台积电强调,EUV 微影技术使台积电能够持续推动晶片微缩,因 EUV 的较短波长能更完美解析先进製程设计。台积电 EUV 设备已达成熟生产的实力,EUV 设备机台亦达大量生产的目标,在日常运作的输出功率都大于 250 瓦。

台积电 7 奈米+ 良率已与 7 奈米相当,6 奈米 2020 年第 1 季量产

台积电业务开发副总经理张晓强表示,AI 和 5G 的应用为晶片设计开启了更多的可能,使其得以许多新的方式改善人类生活。而台积电的客户充满了创新及领先的设计理念,需要台积电的技术和製造能力使其实现。台积电在 EUV 微影技术的成功,是台积电不仅能够具体落实客户的领先设计,同时凭藉卓越的製造能力,亦能使其大量生产的另一个绝佳证明。

N7+ 製程的成功经验是未来先进製程技术的基石。台积电 6 奈米製程技术(N6)将于 2020 年第 1 季进入试产,并于年底前进入量产。随着 EUV 微影技术的进一步应用,N6 製程的逻辑密度将比 N7 提高 18%,而 N6 製程将凭藉着与 N7 完全相容的设计法则,亦可大幅缩短客户产品上市的时间。